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  • VAD合成石英HOSQ-012
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  • VAD合成石英HOSQ-012

    以四氟化硅或有機(jī)硅為原料,采用VADD法制造,具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性,光學(xué)均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場(chǎng)鏡、聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、保護(hù)鏡的制造。

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商品描述

以四氟化硅或有機(jī)硅為原料,采用VADD法制造,具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性,光學(xué)均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場(chǎng)鏡、聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、保護(hù)鏡的制造。


產(chǎn)品指標(biāo)


型號(hào)

金屬雜質(zhì)

(ppb))

羥基

(ppm)

均勻性條紋

應(yīng)力雙折射

(nm/cm)

尺寸

(mm)

波段

(nm)

HOSQ-012<200<200

I級(jí):<5×10-6

II級(jí):<10×10-6

III級(jí):<20×10-6

3D<5

D100

D300

190-2500

備注:可根據(jù)使用尺寸定制生產(chǎn)方案

金屬雜質(zhì)含量


單位:ppb

AlBaCaCrCoCuFeKLiMgMn
NiNaTi含金量
<15<5<20<2<5<5<5<15<5<5<5<5<15<5<200


光學(xué)非均勻性


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