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  • CVD合成石英HOSQ-022
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  • CVD合成石英HOSQ-022

    以四氟化硅為原料,采用CVD法制造,具有大尺寸、低雜質(zhì)含量等特性,光學(xué)均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、高能激光光學(xué)元件和半導(dǎo)體石英器件的制造。

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商品描述

以四氟化硅為原料,采用CVD法制造,具有大尺寸、低雜質(zhì)含量等特性,光學(xué)均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、高能激光光學(xué)元件和半導(dǎo)體石英器件的制造。


產(chǎn)品指標(biāo)


型號

金屬雜質(zhì)

(ppb))

羥基

(ppm)

均勻性條紋

應(yīng)力雙折射

(nm/cm)

尺寸

(mm)

波段

(nm)

HOSQ-022<500<1000

I級:<5×10-6

II級:<10×10-6

III級:<200×10-6

1D<5D7500190-2500

備注:可根據(jù)使用尺寸定制生產(chǎn)方案

金屬雜質(zhì)含量


單位:ppb

AlBaCaCrCoCuFeKLiMgMn
NiNaTi含金量
<50<5<50<2<5<5<5<20<5<5<5<5<40<5<500


光學(xué)非均勻性與應(yīng)力雙折射


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