18082064455
微信同號
以四氟化硅為原料,采用CVD法制造,具有大尺寸、低雜質(zhì)含量等特性,光學(xué)均勻性好,可用于LCD光掩膜基板、高能激光光學(xué)元件和半導(dǎo)體石英器件的制造。
滿意度:
銷量: 0
評論: 0 次
產(chǎn)品指標(biāo)
金屬雜質(zhì)
(ppb))
羥基
(ppm)
應(yīng)力雙折射
(nm/cm)
尺寸
(mm)
波段
(nm)
I級:<5×10-6
II級:<10×10-6
III級:<200×10-6
備注:可根據(jù)使用尺寸定制生產(chǎn)方案
金屬雜質(zhì)含量
單位:ppb
光學(xué)非均勻性與應(yīng)力雙折射
地址:江蘇省泰興市張橋鎮(zhèn)G345與X307交叉西南
電話:18082064455
郵箱:[email protected]